JB—VI--1型四英寸/光刻机
　主要用于：集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和生产。主要由：高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜、双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、多点光源（蝇眼）曝光头、PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。
TG2U型光刻机
　　　TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。
H94-17A光刻机
适用范围广适用于φ100mm 、厚度为5mm以下的各种基片的曝光。
包括非圆形基片的曝光.结构先进具有气浮式找平机构和可实现真空硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构,具有真空掩膜夹盘、真空片吸盘。操作简便采用翻板方式取片、放片,按钮、按键方式操作，可实现真空吸版、吸片、吸板架、吸浮球、吸扫描锁等，操作、调试、维护、修理都非常简便。可靠性高采用进口电磁阀、按钮、定时器,采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的零件加工，使本机具有非常高的可靠性。特设的“碎片”处理功能 ?? 解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。
G-25A型光刻机
适用范围 适用于Φ150mm以下，厚度为5mm以下各种基片的光刻。（包括非常规基片、碎片及表面不平整基片 二、主要技术参数： 1、适用于Φ6"、Φ5"、Φ4"基片，基片厚度0～5mm均可。 2、采用多点光源曝光头，最大输出光束≥Φ160mm；光束不均匀性≤±7%，（Φ150mm范围内）。 3、光源采用350W直流汞灯。 4、版、片对准精度±0.5μm。 5、采用片动、版不动的对准方式以及三点找平机构。 6、扫描观察范围：±15mm。 7、采用双目视场显微镜，放大倍数50X～375X。也可采用双CCD加液晶监视器来显示，放大倍数30X～189X或67.5X～420X。 8、采用时间继电器（可从0.1秒～999.9秒预设）控制曝光头的气动快门，以实现曝光时间的自动控制。 9、能实现硬接触曝光、软接触曝光及微力接触曝光。 10、电控采用PLC控制，各主要元器件（如电磁阀）均采用进口品牌件。
CZ-GK006型光刻机
CZ-GK006型光刻机是创作公司开发的制作动态点阵全息图的最新型专业全息制版设备。本机设计合理，结构紧凑，关键运动部件选用德国进口丝杠，导轨、联轴器、精度高，振动小。电控部分采取模块化设计，性能稳定，可靠性高，能长时间连续工作。在吸取前两代光刻机设计优点的基础上，加大了光学操作平台面积为专业人士进一步开发具有自己特点的动态点阵全息图提高供了足够的开发空间。本机控制软件界面简单友好，功能强大，附带断电保护和功率监测的功能，每轴电机运动均可独立调控，利于发挥出每台机器的最佳性能，且软件自带预视功能，可提前预知全息图的动态效果。本机控制图形为8位BMP灰阶图，BMP图为 windows 通用格式，各种作图软件均能制作，图像来源丰富。